藍寶石研磨液YG-D302
- 產(chǎn)品簡介：藍寶石基片CMP拋光液是我公司生產(chǎn)的新一代水溶性高純度CMP漿料，具有穩(wěn)定性好、濃度高、可循環(huán)使用等特點，用于藍寶石基片軟拋加工工藝，能夠實現(xiàn)晶片移率 高，表面平...
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產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品簡介：藍寶石基片CMP拋光液是我公司生產(chǎn)的新一代水溶性高純度CMP漿料，具有穩(wěn)定性好、濃度高、可循環(huán)使用等特點，用于藍寶石基片軟拋加工工藝，能夠實現(xiàn)晶片移率
高，表面平整度高、粗糙度低，表面無麻點、腐蝕坑等微缺陷，多項參數(shù)達到國際先進水平。YG-D302型CMP漿料采用單質硅水解工藝制備的致密度更好的膠體并且在輔助催化方面做了改進，具有去除速率高，表面質量好等優(yōu)勢。
產(chǎn)品參數(shù)：
外觀：乳白色
PH值：10-12
比重 ：1.265-1.300
粘度 (mPa.s, 25*C) <5
粒徑 (nm) ：120-140
Si02% :38-42
產(chǎn)品特點：雜質少，易清洗，無毒無污染。
產(chǎn)品適用：本品主要適用于2、4、6英寸藍寶石襯底片的高質量平整化精加工工藝。
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